multicavity magnetron sputtering optical coating machine 多腔磁控濺射光學鍍膜機
射頻離子源清洗及后氧化輔助濺射成膜，適用于車載蓋板玻璃和3C產(chǎn)品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質SiO2+Si3N4膜系。可選在線AF/AS系統(tǒng)，沉積AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同時也適用于3C產(chǎn)品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產(chǎn)品擺放達到最大的利用空間；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。
優(yōu)勢：
?出色的均勻性
?可實現(xiàn)不同的材料或提高產(chǎn)量
?集成式等離子體源，可提高涂層質量并進行基板預清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標利用率，不影響涂層規(guī)格
?簡單的目標交換和易于訪問的系統(tǒng)維護
