電子束真空鍍膜機(jī)是屬于光學(xué)真空鍍膜機(jī)中的一種，應(yīng)用領(lǐng)域抬頭顯示器HUD，AR眼睛，濾光片，LED燈等，應(yīng)用廣泛，優(yōu)點(diǎn)突出，市場(chǎng)占比較大。這款設(shè)備最大的不同是電子束加熱裝置，下面為大家詳細(xì)介紹一下電子束加熱裝置及特點(diǎn)，希望能幫助到大家：
電子束加熱裝置及特點(diǎn)
電子束通過(guò)5-10KV 的電場(chǎng)后被加速，然后聚焦到被蒸發(fā)的材料表面，把能量傳遞給待蒸發(fā)的材料使其熔化并蒸發(fā)。
無(wú)污染：與坩堝接觸的待蒸發(fā)材料保持固態(tài)不變，蒸發(fā)材料與坩堝發(fā)生反應(yīng)的可能性很小。（坩堝水冷）
熱電子發(fā)射(金屬在高溫狀態(tài)時(shí), 其內(nèi)部的一部分電子獲得足夠的能量而逸出表面); 電子在電場(chǎng)中加速;聚焦電子束; 聚焦電子束轟擊被鍍材料表面, 使動(dòng)能變成熱能.
直式槍: 高能電子束轟擊材料將發(fā)射二次電子,二次電子轟擊薄膜會(huì)導(dǎo)致膜層結(jié)構(gòu)粗糙, 吸收增加, 均勻性變差。e形槍: 蒸發(fā)材料與陰極分開 (單獨(dú)處于磁場(chǎng)中),二次電子因受到磁場(chǎng)的作用而再次發(fā)生偏轉(zhuǎn), 大大減少了向基板發(fā)射的幾率.
電子束蒸發(fā)的特點(diǎn)
難熔物質(zhì)的蒸發(fā)；以較大的功率密度實(shí)現(xiàn)快速蒸發(fā),防止合金分餾;同時(shí)安置多個(gè)坩堝，同時(shí)或分別蒸發(fā)多種不同物質(zhì)；大部分電子束蒸發(fā)系統(tǒng)采用磁聚焦或磁彎曲電子束，蒸發(fā)物質(zhì)放在水冷坩堝內(nèi)。蒸發(fā)發(fā)生在材料表面, 有效抑制坩堝與蒸發(fā)材料之間的反應(yīng)，適合制備高純薄膜，可以制備光學(xué)、電子和光電子領(lǐng)域的薄膜材料，如Mo、Ta、Nb、MgF2、Ga2Te3、TiO2、Al2O3、SnO2、Si等；蒸發(fā)分子動(dòng)能較大, 能得到比電阻加熱更牢固致密的膜層
電子束真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)源的缺點(diǎn)：可使蒸發(fā)氣體和殘余氣體電離，有時(shí)會(huì)影響膜層質(zhì)量；電子束蒸鍍裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，價(jià)格昂貴； 產(chǎn)生的軟X射線對(duì)人體有一定的傷害。
